PR Newswire

Der hier verfügbare Newsfeed wird von unserem Content-Partner PR Newswire bereitgestellt. Es handelt sich dabei um einen der bedeutendsten und reichweitenstärksten Pressedienste, die Nachrichten, Pressemitteilungen und Multimedia-Inhalte an Medien, Journalisten und der Öffentlichkeit zur Verfügung stellen.
Der NewsWire-Hub ("X-Billboard") umfasst derzeit vier der wichtigsten internationalen Nachrichtenquellen und wird durch einen Börseninformationsservice ergänzt. Die einzelnen Newswire-Services ergänzen sich und bilden ein komplementäres Informationsangebot, mehr als drei Viertel der offiziellen Nachrichtenquellen ab, auf die sich Redaktionen weltweit bei ihrer Börsenberichterstattung stützen. Ihr Vorteil: Sie finden hier alles in einer Übersicht. Über die Steuerelemente können Sie zu den einzelnen Bereichen navigieren. Im Terminalview können Sie gezielt auf Unternehmensebene individuelle Recherchen durchführen.
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PR Newswire ist eine wichtige Nachrichtenquelle, die über das X-Billboard abgerufen werden kann. Sie ist Teil des Newswire-Hub, der für Börsianer wichtige internationalen Nachrichtenquellen an einem zentralen Ort bündelt. Wer sich schnell einen Überblick verschaffen will, kann sich bequem durch die Headlines scrollen. Wer sich detailliert mit den Nachrichten auseinandersetzen möchte, kann über die Detailansichten der Info-Cards direkt auf die jeweilige Nachricht und weitere Analysewerkzeuge zugreifen.
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Letzte Aktualisierung: 17.08.2024 | 11PM
Di., 14.01.2025       Lam Research
US5128071082

FREMONT, Calif., Jan. 14, 2025 /PRNewswire/ -- Lam Research Corporation (Nasdaq: LRCX) today announced that its innovative dry photoresist (dry resist) technology has been qualified for direct-print 28nm pitch back end of line (BEOL) logic at 2nm and below by imec, a leading research and innovation hub in nanoelectronics and digital technologies. An advanced patterning technique introduced by Lam, dry resist enhances the resolution, productivity and yield of extreme ultraviolet (EUV) lithography, a pivotal technology used in the production of next-generation semiconductor devices.

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